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                      更新時間:2020-03-25

                      型號:

                      瀏覽量:1344

                      產品簡介: 1.該設備爐管可360度旋轉,管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻; 2.可左右大角度傾斜,方便出放料,傾斜角度在0~35°之間。 3、廣泛應用于電池正負極材料,無強酸堿性粉體材料,顆粒狀物料。 4、可在真空下或氣氛保護下進行燒制。
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                      更新時間:2024-02-21

                      型號:BTF-1200C-III-R-CVD-150

                      瀏覽量:172

                      該設備是定制回轉CVD設備,可實現一次加3L粉料進行生產;從結構上共分成主體設備、上料機構、收料機構三大模塊。
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                      更新時間:2024-02-21

                      型號:BTF-1200C-SL-L-CVD

                      瀏覽量:159

                      BTF-1200C-SL-L-CVD是一款智能型滑軌式CVD系統。該設備主要分為五大部分:加熱系統,真空系統,氣體控制供給系統,自動控制移動系統,控制軟件系統組成。
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                      更新時間:2024-02-20

                      型號:BTF-1200C-3VT-D100

                      瀏覽量:158

                      BTF-1200C-3VT-D100是一臺實驗級立式碳納米管制備設備。
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                      更新時間:2024-02-20

                      型號:BTF-1200C-RB-D-CVD

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                      該款CVD設備配備加熱系統、進料系統、出料系統、觸摸屏控制系統、氣路系統、真空系統、平臺升降裝置等。設備廣泛應用于電池正負極材料,無強酸堿性粉體材料,顆粒狀物料等。
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                      型號:BTF-1200C-II-PECVD

                      瀏覽量:1443

                      CVD系統是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應特征,從根本上改變了反應體系的能量供給方式,低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點,工藝流程簡單。
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                      更新時間:2021-09-28

                      型號:BTF-1200C-HV

                      瀏覽量:1396

                      BTF-1200C-HV高真空自動循環設備內外雙熱電偶控制,內熱電偶制動,使用者可以設定設備循環溫度點,可根據內熱電偶測得的溫度制動,推動爐管進出加熱腔體,整個實驗過程可自動控制無需人工干涉。
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                    • 碳納米管
                      碳納米管

                      更新時間:2021-10-14

                      型號:

                      瀏覽量:1653

                      流化床—粉體碳納米管生長設備通過流量計和靜態混氣室把氣體均勻混拌,通過上通氣,氣體通過雙層管(夾層管預熱氣體,內腔體生長碳納米管)確保通入的氣體進入生長腔體內溫度一直,通過多空陶瓷網的結構設計,從而解決均勻進氣的問題。使的生長腔體熱場流場穩定,確保得到高質量重復性好的碳納米管。
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                    共 28 條記錄,當前 1 / 4 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
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